瑞士IMT空間濾波器

赫爾納供應(yīng)瑞士IMT空間濾波器，德國總部直接采購，近30年進(jìn)口工業(yè)品經(jīng)驗(yàn)，原裝產(chǎn)品，支持選型，為您提供一對(duì)一的解決方案：貨期穩(wěn)定，報(bào)價(jià)，價(jià)格優(yōu)，在中國設(shè)有8大辦事處提供相關(guān)售后服務(wù)。

公司簡(jiǎn)介

瑞士IMT AG（IMT Masken und Teilungen AG）成立于瑞士格林芬塞（Greifensee），專注于高精度光學(xué)組件與微結(jié)構(gòu)加工技術(shù)的研發(fā)與生產(chǎn)。公司通過精密光刻、蝕刻及薄膜涂層技術(shù)，為全球工業(yè)、科研及醫(yī)療領(lǐng)域提供定制化光學(xué)解決方案。其產(chǎn)品以嚴(yán)格的工藝控制和穩(wěn)定的性能著稱，廣泛應(yīng)用于激光技術(shù)、顯微成像及光學(xué)檢測(cè)等領(lǐng)域。

產(chǎn)品類型

IMT AG的空間濾波器（SF系列）包含以下主要類型：

1.標(biāo)準(zhǔn)空間濾波器：用于光束準(zhǔn)直與雜散光過濾。

2.Nipkow盤空間濾波器：專為共聚焦顯微鏡設(shè)計(jì)的旋轉(zhuǎn)盤結(jié)構(gòu)。

3.Hartmann板：用于光學(xué)系統(tǒng)波前像差檢測(cè)。

4.定制化多孔陣列：支持復(fù)雜孔徑圖案設(shè)計(jì)。

5.高密度微孔濾光片：適用于激光模式篩選與光束整形。

主要型號(hào)

SF系列涵蓋以下主要型號(hào)

SF-2µm：基礎(chǔ)型單孔空間濾波器，孔徑≥2 µm。

SF-NK200：Nipkow盤，孔徑螺旋排列，適配共聚焦成像系統(tǒng)。

SF-HP10：Hartmann板，10×10陣列，用于光學(xué)檢測(cè)。

SF-MA500：多孔陣列濾光片，支持500通道分光。

SF-Chrome：鍍鉻涂層濾光片，光學(xué)密度＞3。

產(chǎn)品介紹

一、標(biāo)準(zhǔn)空間濾波器（SF-2µm）技術(shù)參數(shù)：

1.基底材料：熔融石英（Fused Silica）、硼硅玻璃（Borofloat）。

2.孔徑范圍：2 µm至500 µm（公差±0.5 µm）。

3.涂層：鉻（Chrome）或IMTBC黑鉻，厚度0.3–10 mm。

4.工作原理：通過微米級(jí)孔徑限制光束發(fā)散角，濾除高階光學(xué)模式，提升激光束質(zhì)量。

二、Nipkow盤（SF-NK200）技術(shù)參數(shù)：

1.孔徑排列：螺旋式分布，支持高速旋轉(zhuǎn)。

2.基底厚度：1.1 mm（D263玻璃）。

3.功能：用于共聚焦顯微鏡照明系統(tǒng)，通過同步旋轉(zhuǎn)與成像消除背景雜散光。

三、Hartmann板（SF-HP10）技術(shù)參數(shù)：

1.陣列密度：10×10孔陣，孔徑5 µm。

2.基底：熔融石英，厚度0.5 mm。

3.應(yīng)用：搭配CCD檢測(cè)光學(xué)系統(tǒng)像差，適用于激光校正與眼科診斷。

優(yōu)勢(shì)特點(diǎn)

1.高精度加工：孔徑公差控制±0.5 µm，位置偏差＜±0.5 µm。

2.多樣化基底選擇：支持熔融石英、硼硅玻璃等材料，適配不同光學(xué)環(huán)境。

3.嚴(yán)格質(zhì)量控制：鍍層無缺陷工藝，避免成像噪點(diǎn)或信號(hào)干擾。

4.靈活定制：支持孔徑尺寸、陣列密度及涂層類型的個(gè)性化需求。

5.長(zhǎng)期穩(wěn)定性：耐高溫、抗激光損傷，適用于高功率激光系統(tǒng)。

主要應(yīng)用

1.激光光學(xué)：激光束準(zhǔn)直、模式凈化及焦點(diǎn)優(yōu)化。

2.顯微成像：共聚焦顯微鏡、熒光顯微系統(tǒng)。

3.光學(xué)檢測(cè)：波前傳感器、光學(xué)元件像差分析。

4.半導(dǎo)體加工：光刻機(jī)光束整形與掩模校準(zhǔn)。

5.健康監(jiān)測(cè)設(shè)備：眼科診斷儀器（如LASIK術(shù)前檢測(cè)）。

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